六方氮化硼(h-BN),具有与石墨烯相似原子结构的新型二维材料,拥有原子级光滑表面和较少的表面悬挂键,其晶格系数与石墨烯相近(晶格失配率仅为1.8%),是一种超薄的绝缘材料,广泛应用于工业领域。
化学气相沉积法是目前认为的最有希望制备大面积、高质量的二维六方氮化硼薄膜的方法,但也很难获得多层六方氮化硼。宏元化工有一种制备多层六方氮化硼的方法,只需将含硼元素的化合物和含氮元素的化合物或含硼元素和氮元素的化合物通过泡沫材料催化进行化学气相沉积反应,沉积在衬底上,即得到多层六方氮化硼。