氮化硼(h-BN)是石墨的等电子体,具有与石墨类似的层状结构,因其在600~1000℃下具有优异的抗氧化性而用作抗。由BN与SiC的协同抗氧化作用而生成的B2O3-SiO2高硼硅玻璃态在材料表面形成抗氧化保护层,使得其抗氧化温度区间可达到1200℃以上。
采用前驱体聚合物发泡技术制备高孔隙率、大孔径的轻质SiC-BN复相泡沫陶瓷,其压缩强度约为纯SiC陶瓷泡沫的5~10倍;在800~1100℃的温度区间内具有显著的抗氧化性能,同时具有良好的高温隔热性能.其中以起始组分重量比为1:1的复合前驱体所制备的BN/SiC复相多孔陶瓷的热导率在500℃时为1.5 W/(m·K);在1500℃时仍小于4.0 W/(m·K).