二茂铁聚合物的光性能应用

二茂铁基聚合物是一类富电子体系，因此表现出优良的电化学性能，可以应用于电化学领域，如用于修饰材料、导电材料等。二茂铁聚合物作为修饰材料可以提高原电极表面材料催化剂催化效率，提高电极的稳定性、选择性以及灵敏度等。由于二茂铁聚合物具有很强的导电性能。因此它在多个方面获得了应用。例如将PFS用于作绝缘体的表面涂料，在电子束的辐射下，未见电弧的发生，鉴于PFS的导电性的性能，它能将聚集的电荷分散出去了，因此可以用于能保护航天器免受来自太阳的电子辐射，防止特种设备受到静电的危害。电荷传输性能研究表明聚二茂铁硅烷导电的载流体空穴，对于这些聚合物的掺杂导电性或者氧化导电性的研究还在探索深入中。

光印刷（或光刻）是半导体工业器件制造的重要一环，减小光刻线宽和提高光刻团的精度是目前对光刻材料提出的新要求。二茂铁基聚合物由于主链上有Fe，因此对紫外光、电子束、等离子、臭氧具有很好的稳定性，当在其上引入光敏基团后是很好的光致抗蚀剂。如将二茂铁硅烷聚异戊二烯嵌段共聚物自组装，经等离子刻蚀出去有机相，可得到PFS刻蚀图案。主链二茂铁基聚合物具有特殊的光稳定性，在其上引入光敏性基团，可得到负性光刻胶，可以实现自上而下的光刻成像。