信息摘要：激光无心插柳火成岩法制取氮化硼奈米塑料膜按照纯净度为99.5%的nik箔为结构层做好六方pe膜的基性岩。前提将Ni箔由辅组质谱仪器实...
激光无心插柳火成岩法制取氮化硼奈米塑料膜按照纯净度为99.5%的nik箔为结构层做好六方pe膜的基性岩。前提将Ni箔由辅组质谱仪器实现原位预离子注入，之后在1000℃下固溶处理10min。并且在主质谱仪器发送的氩电子束从六方砷化镓上浪涌出B电子层和N共价键，在除盐后的Ni箔上完成基性岩，配制氮化硼納米pe膜原料。
那么你知道基于离子束溅射沉积的六方氮化硼厚膜的制备方法是什么吗，接下来小编给大家介绍下吧！
此方法将双离子束溅射沉积和离子束刻蚀清洗结合，包括：
(1)提供衬底；
(2)利用辅助离子源产生氩离子束对衬底表面进行离子束刻蚀清洗，获得原子级的清洁表面；
(3)利用双离子束溅射沉积的方法制备六方氮化硼厚膜。
六方氮化硼
高官能度端羟基聚丁二烯
端羟基聚丁二烯
无定形元素硼
六方氮化硼 CAS：10043-11-5
防老剂H